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产品中心
大面积磁控溅射低辐射镀膜玻璃生产线
采用磁控溅射沉积技术,在玻璃表面沉积一系列介质和金属薄膜,该镀膜产品广泛应用于建筑与汽车玻璃、光学、新能源及电子与半导体领域。
性能参数

 

玻璃规格

2,600*3,660mm/2,800*4,880mm/3,300*6,000mm/4,000*8,000mm

 

产品种类

单银/双银/三银可钢化Low-E玻璃;光学/功能膜

单靶均匀性:≤±0.8%

玻璃间距:≤30 mm

年产能:≤2,000万㎡

技术特色

产品经过精心设计和制造,使用高质量材料,具有卓越的可靠性和耐用性

高生产率

独特的间隙管理使两个连续基底之间的距离仅仅为30mm,可提高镀膜效率,节约靶材。

高适应度

单银/双银/三银低辐射、阳光控制和其他功能镀膜,可满足不同的镀膜需求。

低能耗

高质量和新能源效率标准组件,如电源或泵,可实现镀膜机的低能耗。

高品质应用

磁控溅射室内独特的布气系统可实现理想的膜层均匀性和高沉积速率。隔气系数>30,单靶均匀性≤±0.8%。

易于维护

核心组件的模块化设计、符合人体工学和易于维护的布局大大减少了清洁和常规维护期间的设备停机时间。

高生产稳定性

自动化、智能化的电气控制系统保证了生产的稳定性和可操作性强。优化的靶材利用,可延长设备正常运转的时间。

核心技术

自主研发、成熟可靠的专有技术,为您提供标准、灵活的制造设备。

真空腔体
输送系统
镀膜系统
自动控制系统
电源及控制系统
管路系统

真空腔体

真空腔体

真空腔体

真空腔体

输送系统

输送系统

镀膜系统

镀膜系统

镀膜系统

镀膜系统

镀膜系统

镀膜系统

镀膜系统

镀膜系统

镀膜系统

镀膜系统

自动控制系统

自动控制系统

自动控制系统

自动控制系统

自动控制系统

自动控制系统

自动控制系统

电源及控制系统

管路系统

管路系统

管路系统